光罩(photomask)是半導體的關鍵製程與模具,2018年的總產值為40億美元(約合新台幣1,212億元)。半導體有13%的產值落在光罩這個製程,而此關鍵製程有70%是由半導體晶圓代工廠自製、30%是由大廠委外代工。也就是說,獨立的光罩(photomask)市場規模約為12億美元~16億美元。
台灣的光罩廠光罩於9月12日舉辦法說會,重點如下:
◎公司明年的每股盈餘(EPS)為2.5元、本益比為15倍、目標價約37元~38元。
◎光罩、曝光、顯影、蝕刻皆為半導體關鍵製程。
光罩2019年的資本支出為20億元,擴充應用在65奈米~40奈米的設備,擴建光罩修補機、光罩檢驗機、電子束曝光機、光罩清洗機,產能陸續開出,此部分的資本支出為65奈米的較高階機台。65奈米假設有40層,會有30層屬於低階製成、10層屬於高階製程,高階製成的單價是低階製成的2~3倍起跳。
光罩原本已經有一台可以做到90奈米的電子束曝寫機,2019年5月又添購一台可以做到40奈米製程的電子束曝寫機(一台約1,000萬美元)與相關設備,如果2019年年底跟聯電談妥55奈米製程的光罩製作合作案後,估計會再引進一台能做到40奈米製程的電子束曝寫機與相關設備,預計此設備2019年10月有機會進入量產,但是要到2020年才會比較有顯著的營收貢獻,同時也將帶動原本可以做到90奈米的光罩設備產能利用率。而光罩的管理階層認為,新機台的學習曲線是可以預期的,不會到太大的技術跳躍,學習的時間不會太久。
為了改善光罩營運結構與購併美祿科技,董事長吳國精今年3月買入1,000張、5月買入1,000張、8月買入1,500張,合計達3,500張股票。
杓型底部完成,股價突破頸線,型態已經完成。
第3季進入傳統電子股旺季,預估光罩第3季合併營收將達10億4,200萬元,營業利益為8,900萬元、稅後淨利為9,300萬元、EPS為0.37元;第4季EPS為0.41元。以長線來說,擴廠與光罩外包的趨勢逐漸成型,一旦趨勢成型就不會輕易改變。吳國精過去的經營能力與改革績效亮眼,個人也於今年買入公司股票3,500張,因此建議可以持續留意公司的長線發展。